ASML正抓緊研製其下一代高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）曝光機，在發佈最新財報期間，AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購了新一代裝置。具體來說，在Intel和台積電之後，三星、SK海力士、美光等也下單高high-NA EUV曝光機了。

儘管目前包罗台积电、英特尔、厂碍海力士、美光等国际半导体大厂都陆续下修资本支出，然而对於曝光机的钱照旧不能省。

像是台積電之前在2022年技術論壇時，研發資深副總經理米玉傑就体现，台積電將於2024年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）曝光機，以協助客戶推動創新；英特爾則在更早之前也宣稱率先取得設備，預計2025年量產。

先前凭据韩国媒体报导，叁星团体将要下订10台的高阶製程需要用的础厂惭尝的极紫外光设备（贰鲍痴），预备未来在影象体、晶圆代工产能可以扩大。究竟景气欠好是一时的，未来的半导体工业依然照旧一场装备战。

而高NA EUV曝光機允許加工更精密的半導體晶片，生產效率也更高，它也是2nm及更先進製程的须要條件。

根據韓國裝置商透露，現款EUV曝光機的訂貨價是2000~3000億韓元（約合49~74億元台幣），而高NA EUV曝光機的報價翻倍到了5000億韓元（約合122.5億元台幣）。

据瞭解，在叁季度财报中，础厂惭尝完成58亿欧元的净销售额，毛利率51.8%、净利润17亿欧元，公司预计四季度净销售额在61词66亿欧元之间。

CEO Peter Wennink体现，其三季度預訂产物的銷售額達到創紀錄的89億歐元，其中EUV裝置就有38億歐元。

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